硅碳CVD、乙炔包覆回轉(zhuǎn)爐
專業(yè)用于硅碳負極CVD氣相沉積工藝。
選件：
產(chǎn)品特點
1、燒結(jié)周期短：動態(tài)燒結(jié)方式，熱傳導速度快，大大縮短燒結(jié)周期，相對能耗優(yōu)于其他爐型；
2、物料品質(zhì)均勻：物料在爐內(nèi)的運動狀態(tài)為動態(tài)的前進和翻轉(zhuǎn)，受熱均勻，確保了物料充分燒結(jié)，物料品質(zhì)一致性好；
3、單機產(chǎn)能可擴產(chǎn)：較大單機產(chǎn)能，且易于實現(xiàn)規(guī)模放大，單臺設(shè)備產(chǎn)能可達5-200kg/批，且有實現(xiàn)連續(xù)化生產(chǎn)的可能；
4、安全系數(shù)高：爐內(nèi)微正壓，排氣結(jié)構(gòu)簡單，可有效泄壓，安全性能相對較高。
產(chǎn)品詳情
| 額定溫度 | 控溫精度 | 燒結(jié)氣氛 | 生產(chǎn)方式 | 單次處理量 |
| 600℃ | ±1℃ | 氮氣,硅烷,乙炔 | 間歇式、連續(xù)式 | 5-200kg/批 |
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